14-AMI

Das 14AMI-Projekt widmet sich der Entwicklung von hochmodernen 14-Angström-Halbleiterchips, die mithilfe der EUV-Lithografie hergestellt werden.

EUV-Lithografie nutzt ultraviolette Strahlung im extremen Ultraviolettbereich, um winzige Strukturen auf Siliziumwafern zu erstellen. Diese fortschrittliche Technik ermöglicht es, mehr Transistoren und Schaltkreise auf einem einzigen Chip unterzubringen. Das ist entscheidend, um mit den wachsenden Anforderungen der Halbleiterindustrie Schritt zu halten und das Moore'sche Gesetz zu erfüllen.

Allerdings bringt die EUV-Lithografie auch technische Herausforderungen mit sich, wie die Herstellung von EUV-belichteten Masken und die präzise Handhabung von extrem kurzwelliger Strahlung.

Das Hauptziel des 14AMI-Projekts ist die Förderung der Entwicklung und Bereitstellung modernster EUV-Lithografie-Tools. Das Projekt wird von einem Konsortium aus 31 Forschungseinrichtungen durchgeführt und deckt eine breite Palette von Forschungsbereichen ab. Die Schwerpunkte liegen in den Bereichen Lithografie, Metrologie und Prozessmodulintegration.

In der Lithografie arbeiten wir an Lösungen für die 0,55 NA EUV-Scannerplattform, um die Leistung und Optik für den 14-Angström-Knoten sicherzustellen. Dazu gehört die Entwicklung von adaptiver EUV-Spiegeltechnologie und Optimierungen in Bezug auf Optiklebensdauer und Durchsatz.

An der Universität Wuppertal beschäftigen wir uns speziell mit der Wechselwirkung von EUV-induziertem Plasma und Oberflächen von Optikkomponenten. Wir entwickeln Analysewerkzeuge, die für die Detektion von EUV-induziertem Plasma und Vakuum sowie für Plasmaarten in EUV-Lithografieanwendungen entwickelt werden. Diese Analysetechnologie ist von entscheidender Bedeutung, um das Verständnis in dieser anspruchsvollen Umgebung zu vertiefen und zur Verbesserung der Optiklebensdauer beizutragen.

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